深圳市潔馳科技有限公司
崔磊
李水寶（重慶鼎圣律師事務(wù)所）
廣州市吉池環(huán)?？萍加邢薰?br/>喻秋（廣東林德律師事務(wù)所）
鐘潔（廣東瀚杰律師事務(wù)所）
健鼎（湖北）電子有限公司

上訴人（原審原告）:深圳市潔馳科技有限公司，住所地廣東省深圳市寶安區(qū)。
法定代表人:李建光，該公司董事長。
委托訴訟代理人:崔磊，該公司工作人員。
委托訴訟代理人:李水寶，重慶鼎圣律師事務(wù)所律師。
被上訴人（原審被告）:廣州市吉池環(huán)?？萍加邢薰?，住所地廣東省廣州市蘿崗區(qū)。
法定代表人:李建新，該公司總經(jīng)理。
委托訴訟代理人:喻秋，廣東林德律師事務(wù)所律師。
委托訴訟代理人:鐘潔，廣東瀚杰律師事務(wù)所律師。
原審被告:健鼎（湖北）電子有限公司，住所地湖北省仙桃市。
法定代表人:陳文銓，該公司執(zhí)行董事。
委托訴訟代理人:喻秋，廣東林德律師事務(wù)所律師。
委托訴訟代理人:鐘潔，廣東瀚杰律師事務(wù)所律師。
潔馳公司上訴請求:1、撤銷一審判決；2、支持潔馳公司的訴訟請求；3、一、二審訴訟費用由吉池公司負擔。
事實與理由:一審法院認定離子膜與隔膜不等同，屬于認定事實錯誤。
被控侵權(quán)設(shè)備中使用的隔膜與涉案專利的離子交換膜屬于等同技術(shù)特征。
第一，在技術(shù)手段上，隔膜電解和離子膜電解是兩種常規(guī)手段，本領(lǐng)域技術(shù)人員選擇離子交換膜或隔膜，根據(jù)公開出版物《燒堿生產(chǎn)與操作》一書的教導(dǎo)就可以實現(xiàn)，不需要付出創(chuàng)造性勞動。
第二，在作用上，隔膜也可實現(xiàn)離子交換膜的作用。
涉案專利的離子交換膜的作用，一是分隔電解槽，二是防止陽極室內(nèi)的氯氣遷移至陰極室內(nèi)，三是允許氯離子從陰極室遷移至陽極室。
被控侵權(quán)設(shè)備中，電解槽通過隔膜分隔成陽極室和陰極室，這是非常明顯的。
吉池公司也確認，被控侵權(quán)設(shè)備的蝕刻廢液進入陰極后，通過隔膜進入陽極室中，由此，蝕刻廢液中的氯離子也肯定是進入了陽極室中，同時對氯氣的遷移起到隔離作用。
所以，被控侵權(quán)設(shè)備中的隔膜，能夠?qū)崿F(xiàn)涉案專利中離子交換膜的作用，隔膜和離子交換膜是等同的技術(shù)特征。
吉池公司辯稱:1、隔膜電解法和離子膜電解法的化學(xué)原理不同，隔膜和離子膜不能替換，所采用的材料也不同，因此不構(gòu)成等同侵權(quán)。
2、上述兩種電解法中使用的膜不同，且隔膜是電離子和液體都能自由通過，而離子膜只能有特定的離子通過，液體不能通過。
并且，兩種電解槽中蝕刻液流動路徑及離子運動方式不同，被控侵權(quán)設(shè)備要實現(xiàn)的目的是回收、循環(huán)利用，而涉案專利與被控侵權(quán)設(shè)備所采用的工藝流程及設(shè)備也不同，被控侵權(quán)設(shè)備不構(gòu)成侵權(quán)。
3、潔馳公司在上訴狀中對離子膜和隔膜作用的陳述和比對，是不完整和不科學(xué)的，擴大了涉案專利的保護范圍。
請求二審法院駁回潔馳公司的上訴請求。
健鼎公司述稱:同意吉池公司的答辯意見，一審判決認定事實清楚，適用法律正確，請求二審法院駁回上訴，維持原判。
潔馳公司向一審法院起訴請求:1、判令健鼎公司立即停止使用產(chǎn)品含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的侵權(quán)行為；2、判令吉池公司立即停止生產(chǎn)銷售產(chǎn)品含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的侵權(quán)行為，并且銷毀庫存產(chǎn)品、專用模具；3、判令吉池公司賠償潔馳公司的經(jīng)濟損失以及為制止侵權(quán)行為所支付的合理費用共計10萬元（人民幣，下同）；4、吉池公司承擔本案的訴訟費用。
本案一審?fù)徶校瑵嶑Y公司放棄關(guān)于判令吉池公司銷毀庫存產(chǎn)品、專用模具的訴訟請求。
一審法院認定事實:潔馳公司于2010年10月19日就“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”向國家知識產(chǎn)權(quán)局提出實用新型專利申請，并于2011年5月18日獲得授權(quán)，專利號為ZL20102056××××.0。
該專利目前仍處于有效法律狀態(tài)。
該實用新型專利權(quán)權(quán)利要求書記載:一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，其特征在于:1、所述再生系統(tǒng)包括蝕刻缸；2、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽；3、離子膜電解槽；4、再生蝕刻液槽；5、所述離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室；6、所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽將蝕刻缸和陽極室相連通；7、所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液；8、所述再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通；9、所述再生蝕刻液槽儲存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。
潔馳公司認為健鼎公司使用的被控侵權(quán)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)侵犯其專利權(quán)，遂于2015年4月1日提起訴訟，同時申請證據(jù)保全，一審法院裁定準許。
一審法院在第一次執(zhí)行保全措施時，因健鼎公司不同意潔馳公司的代理人現(xiàn)場指認而保全未果。
后在質(zhì)證時，健鼎公司認可有一條由吉池公司生產(chǎn)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)在其生產(chǎn)現(xiàn)場試用，雙方尚未簽訂正式的購銷合同，同意法院現(xiàn)場勘驗。
一審法院組織雙方當事人于2015年10月29日在健鼎公司生產(chǎn)現(xiàn)場對被控侵權(quán)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)進行了勘驗。
第二次證據(jù)保全時的照片顯示，由吉池公司生產(chǎn)、安裝在健鼎公司使用的被控侵權(quán)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，包括以下技術(shù)特征:1、所述再生系統(tǒng)包括蝕刻缸；2、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽；3、離子膜電解槽；4、再生蝕刻液槽；5、所述離子膜電解槽通過隔膜將陰陽極室隔開；6、所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽將蝕刻缸和陽極室相連通；7、蝕刻廢液先流入陰極室，再通過隔膜流入蝕刻廢液槽；8、所述再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通；9、所述再生蝕刻液槽儲存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。
將專利技術(shù)方案與被控侵權(quán)技術(shù)方案進行對比，有兩處技術(shù)特征不同，即技術(shù)特征5和技術(shù)特征7。
對此，潔馳公司認為兩者構(gòu)成等同。
對于技術(shù)特征5，效果、功能和技術(shù)手段是相同的，隔膜和離子膜是兩個常用的選擇，隔膜是上位概念，離子膜也可以稱為隔膜，因此等同。
對于技術(shù)特征7，蝕刻廢液亞銅離子在陽極室發(fā)生反應(yīng)，雖然專利限定所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液，但僅限定了最終狀態(tài)，至于是否經(jīng)過陰極室，本專利并沒有限定。
吉池公司和健鼎公司則認為二者既不相同也不等同。
對于技術(shù)特征5，從離子交換膜和隔膜區(qū)別來說，是用隔膜將電解槽分為陰極室和陽極室，隔膜是一種多孔滲透性隔層，它不妨礙離子的遷移和電流的通過，并使它們以一定的速度流向陰極。
《燒堿生產(chǎn)與操作》一書明確說明，隔膜不是離子膜的上位概念，在工業(yè)生產(chǎn)過程中，隔膜電解法和離子膜電解法存在嚴格區(qū)分；對于技術(shù)特征7，正因為吉池公司使用的是隔膜，因此蝕刻廢液可以自由的通過來到陽極室，為陽極室提供大量的氯化物，而不需要像涉案專利所記載的額外要增加氯化物的儲存槽來向陽極室供給氯化物，因此雙方的工作原理和效果以及使用的手段均不同，不構(gòu)成等同。
健鼎公司在本次訴訟中曾針對涉案專利請求宣告無效，國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會作出的第27969號無效宣告請求審查決定書決定維持專利權(quán)有效。
一審法院認為，被控侵權(quán)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的技術(shù)特征5和7，與涉案專利所記載的技術(shù)特征5和7不構(gòu)成等同特征。
首先，離子交換膜和隔膜是兩種不同的隔離電解槽陰、陽極的物質(zhì)。
公開出版物《燒堿生產(chǎn)與操作》一書對此進行了解釋。
該書記載，電解法分隔膜電解法、水銀電解法和離子膜電解法。
隔膜是一種多孔滲透性隔層，它不妨礙離子的遷移和電流的通過，并使它們以一定的速度流向陰極，但可以阻止OHˉ向陽極擴散。
離子膜，是對陰陽離子具有選擇透過的特性，容許帶一種電荷的離子通過而限制相反電荷離子通過，以達到電化合成的目的，又分為陽離子交換膜和陰離子交換膜。
故離子交換膜和隔膜所使用的技術(shù)手段完全不同。
其次，健鼎公司在針對涉案專利請求無效宣告時，國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會作出的第27969號無效宣告請求審查決定書決定維持專利權(quán)有效。
該決定書論述到:“對比可知，本專利的離子交換膜允許氯離子從陰極室遷移至陽極室，而附件1中公開的陽極室和陰極室之間的離子膜只允許銅離子通過。
雖然兩者均為離子膜，但允許通過的離子不同，因此兩者屬于不同的離子膜，在電解槽中所起的作用不同。
權(quán)利要求1相對于附件1不具備新穎性的理由不能成立”，“本領(lǐng)域技術(shù)人員沒有動機將兩種膜進行交換，因此附件1對于本專利不具有技術(shù)啟示”。
基于此，陰、陽兩種離子膜的差異在無效程序中都不能適用等同，與此工作原理不同的隔膜，更不能適用等同，否則就不當?shù)財U大了涉案專利的保護范圍。
再次，正是由于選擇的不同電解法中使用的膜不同，導(dǎo)致后續(xù)技術(shù)特征7的運行原理和功能、效果不同。
隔膜允許電離子和液體都能夠自由通過，而離子膜只能允許特定的離子通過，導(dǎo)致電解槽中蝕刻液流動路徑及離子運動方式不同。
隔膜電解法，是利用液面高度差使蝕刻液從陰極室流入，從陽極室流出，在陰極板中回收銅，同時利用液體的流動和電離子的自由通過，不斷稀釋蝕刻液中的銅離子，達到再生的作用。
涉案專利采用的技術(shù)手段則是使氯離子在離子交換膜和電場作用下從陰極室遷移至陽極室，陽極室中的氯離子失去電子生成氯氣，從而將陽極室中的亞銅離子氧化成銅離子。
兩者存在實質(zhì)性區(qū)別，沒有證據(jù)表明此區(qū)別是本領(lǐng)域慣用技術(shù)手段的直接替換。
最后，本案專利涉及化工領(lǐng)域，對于化工特別是涉及化合物、電解物等需化學(xué)反應(yīng)才能完成的系統(tǒng)，整套設(shè)備設(shè)定的工藝流程、參與化合反應(yīng)的順序等，除應(yīng)符合相應(yīng)的原理外，某一物質(zhì)替換的同時會導(dǎo)致其他條件變化，并不是普通技術(shù)人員無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就可以得出的結(jié)論，除非權(quán)利人證明這種替換是本領(lǐng)域慣用技術(shù)手段的直接替換。
故潔馳公司請求適用等同原則判定被控侵權(quán)的含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)落入涉案專利權(quán)保護范圍而構(gòu)成侵權(quán)的訴訟請求，不予支持。
綜上，依照《中華人民共和國專利法》第五十九條 ?、《最高人民法院關(guān)于審理專利糾紛案件適用法律問題的若干規(guī)定》第十七條 ?、《最高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問題的解釋》第七條 ?第二款 ?、《中華人民共和國民事訴訟法》第一百四十二條 ?的規(guī)定，判決:駁回潔馳公司訴訟請求。
一審案件受理費2300元，由潔馳公司負擔。
二審中，當事人沒有提交新證據(jù)。
對當事人二審爭議的事實，本院認定如下:
一審查明的被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征一節(jié)存在三處認定事實錯誤，本院依法予以糾正如下:一是被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3應(yīng)當是“隔膜電解槽”，而不是“離子膜電解槽”；二是被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征5應(yīng)當是“隔膜電解槽通過隔膜將陰陽極室隔開”，而不是“離子膜電解槽通過隔膜將陰陽極室隔開”；三是被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7應(yīng)當是“蝕刻廢液先流入陰極室，再通過隔膜流入陽極室”，而不是“蝕刻廢液先流入陰極室，再通過隔膜流入蝕刻廢液槽”。
一審查明涉案實用新型專利權(quán)權(quán)利要求書的內(nèi)容一節(jié)不準確，本院依法予以糾正如下:涉案名稱為“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”（專利號:ZL20102056××××.0）的實用新型專利共有5項權(quán)利要求，本案一審?fù)徶?，潔馳公司明確按涉案專利的權(quán)利要求1確定權(quán)利保護范圍。
涉案專利權(quán)利要求書記載的權(quán)利要求1載明:一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，其特征在于，所述再生系統(tǒng)包括蝕刻缸、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽、離子膜電解槽、再生蝕刻液槽，所述離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室，所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽將蝕刻缸和陽極室相連通，所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽儲存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液，所述再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通，所述再生蝕刻液槽儲存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。
一審查明的“將專利技術(shù)方案與被控侵權(quán)技術(shù)方案進行對比，有兩處技術(shù)特征不同，即技術(shù)特征5和技術(shù)特征7”一節(jié)事實有誤，本院依法予以糾正如下:將被控侵權(quán)技術(shù)方案與涉案專利技術(shù)方案進行對比，有三處技術(shù)特征不同，即技術(shù)特征3、技術(shù)特征5和技術(shù)特征7。
一審認定的其余事實屬實，本院依法予以確認。
二審另查明，田偉軍、易衛(wèi)國主編的公開出版物《燒堿生產(chǎn)與操作》（化學(xué)工業(yè)出版社2013年1月第1版）記載:電解法又分為隔膜電解法、水銀電解法和離子膜電解法。
所謂隔膜電解法是指在陽極與陰極之間設(shè)置隔膜，把陰、陽極產(chǎn)物隔開的電解方法。
隔膜是一種多孔滲透性隔層，它不妨礙離子的遷移和電流的通過，并使它們以一定的速度流向陰極，但可以阻止OHˉ向陽極擴散，防止陰、陽極產(chǎn)物間的機械混合。
隔膜法電解是目前電解法生產(chǎn)燒堿最主要的方法之一，工業(yè)上應(yīng)用較多的是立式隔膜電解槽。
離子膜電解法是20世紀70年代新發(fā)展的方法，是在離子交換樹脂的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項新技術(shù)。
離子膜電解法利用離子交換膜對陰陽離子具有選擇透過的特性，容許帶一種電荷的離子通過而限制相反電荷離子通過，以達到濃縮、脫鹽、凈化、提純及電化合成的目的。
本院認為，結(jié)合當事人的上訴請求、理由及答辯意見，本案二審爭議焦點為:被控侵權(quán)設(shè)備是否落入涉案“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”實用新型專利權(quán)的保護范圍？對此，本院評判如下:
上訴人潔馳公司是涉案名稱為“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”（專利號:ZL20102056××××.0）實用新型專利的專利權(quán)人，該專利目前處于有效的法律狀態(tài)，受法律保護。
《中華人民共和國專利法》第五十九條 ?第一款 ?規(guī)定:“發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。
”《最高人民法院關(guān)于審理專利糾紛案件適用法律問題的若干規(guī)定》第十七條 ?第一款 ?規(guī)定，專利權(quán)的保護范圍應(yīng)當以權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征所確定的范圍為準，也包括與該技術(shù)特征相等同等同的特征所確定的范圍。
該條第二款對等同特征作出了規(guī)定，等同特征是指與所記載的技術(shù)特征以基本相同的手段，實現(xiàn)基本相同的功能，達到基本相同的效果，并且本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在被訴侵權(quán)行為發(fā)生時無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的特征。
根據(jù)上述規(guī)定，在進行專利侵權(quán)判定時，應(yīng)當以專利權(quán)利要求書中記載的技術(shù)方案的全部必要技術(shù)特征與被控侵權(quán)產(chǎn)品的全部技術(shù)特征逐一進行對比。
如果被控侵權(quán)產(chǎn)品的技術(shù)特征全面覆蓋了專利權(quán)利要求書中記載的全部必要技術(shù)特征，則落入專利權(quán)的保護范圍。
本案二審?fù)徶?，各方當事人當庭確認，被控侵權(quán)設(shè)備和涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征1、2、4、6、8、9均相同，本案爭議的是，上訴人潔馳公司主張被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3、5、7與涉案專利權(quán)利要求1所記載的技術(shù)特征3、5、7分別構(gòu)成等同，而被上訴人吉池公司和原審被告健鼎公司則認為雙方的技術(shù)特征3、5、7既不相同也不構(gòu)成等同。
loz1loz關(guān)于涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征3、技術(shù)特征5和被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3、技術(shù)特征5是否分別構(gòu)成等同的問題。
涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征3是“離子膜電解槽”，技術(shù)特征5是“所述離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室”；被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3是“隔膜電解槽”，技術(shù)特征5是“所述隔膜電解槽通過隔膜將陰陽極室隔開”。
本院認為，在涉案雙方的電解槽中，隔膜和離子膜的功能都是將電解槽中的陰極室和陽極室隔離開，兩者都是用來分隔陰極和陽極室的產(chǎn)物混合，即通過膜體的阻隔功能，達到阻止陽極室中通過電解產(chǎn)生的氯氣進入陰極室的效果，并且，根據(jù)公開出版物《燒堿生產(chǎn)與操作》的記載，隔膜電解法和離子膜電解法均是工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用的常規(guī)電解方法，據(jù)此可以認定，隔膜和離子膜屬于基本相同的技術(shù)手段，兩者是化工領(lǐng)域公知的、可選擇的技術(shù)方法，在本案被訴侵權(quán)行為發(fā)生時，將離子膜替換成隔膜是涉案技術(shù)領(lǐng)域普通技術(shù)人員無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的特征。
據(jù)此，上訴人潔馳公司關(guān)于涉案雙方的技術(shù)特征3和技術(shù)特征5分別構(gòu)成等同的上訴理由成立，本院依法予以支持。
一審判決認定涉案雙方的技術(shù)特征3相同以及技術(shù)特征5不構(gòu)成等同系適用法律錯誤，本院依法予以糾正。
（二）關(guān)于涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征7和被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7是否構(gòu)成等同的問題。
涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征7是“所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽儲存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液”，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7是“蝕刻廢液先流入陰極室，再通過隔膜流入陽極室”。
本案二審?fù)徶?，被上訴人吉池公司和原審被告健鼎公司主張，涉案專利技術(shù)中蝕刻廢液是從陽極室加入，而被控侵權(quán)技術(shù)中蝕刻廢液只能從陰極室加入，雙方電解槽中蝕刻廢液流動路徑不同，因此雙方技術(shù)特征7既不相同也不構(gòu)成等同；上訴人潔馳公司則認為，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7記載的是“供給至陽極室”，并未完全限定蝕刻廢液必須先進入陽極室，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7所述蝕刻廢液最終還是流向陽極室，因此被控侵權(quán)設(shè)備向陰極室加入蝕刻廢液仍然落入涉案專利權(quán)的保護范圍。
本院認為，雖然涉案雙方使用的兩種膜體的電解槽本身構(gòu)成等同，但雙方選用不同膜體，導(dǎo)致各自與膜體配合使用的技術(shù)方案不同，雙方技術(shù)特征7的技術(shù)手段和技術(shù)效果不構(gòu)成等同，具體理由如下:首先，涉案專利采用離子膜電解槽的技術(shù)手段，離子膜只允許特定的離子通過，不允許蝕刻廢液通過，也就是說，按照涉案專利的技術(shù)方案，如果向陰極室加入蝕刻廢液，該蝕刻廢液無法通過離子膜供給至陽極室，并且，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7載明的是“供給至陽極室的蝕刻廢液”，而不是“供給至陽極室的氯離子”，換言之，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7應(yīng)當解讀為直接向陽極室加入蝕刻廢液，如此操作蝕刻廢液才能夠供給至陽極室。
反觀被控侵權(quán)設(shè)備使用的隔膜電解法的技術(shù)方案，其不從陽極室加入蝕刻廢液，而是通過從陰極室加入蝕刻廢液形成的液面高度差，使蝕刻廢液和離子通過隔膜遷移到陽極室。
雖然被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7所述的蝕刻廢液最終流向了陽極室，但雙方蝕刻廢液的流動路徑不同，雙方技術(shù)特征7的技術(shù)手段存在明顯不同；其次，如同《燒堿生產(chǎn)與操作》一書所述，涉案專利利用離子膜具有對陰陽離子選擇性透過的特性，可以達到隔膜所不具備的凈化、提純等效果，而被控侵權(quán)設(shè)備需要利用液面高度差使得蝕刻廢液從陰極室流向陽極室，在液體流動和離子遷移的過程中，稀釋蝕刻廢液中的銅離子，實現(xiàn)含銅離子酸性蝕刻液再生的功能，其工作效率低于涉案專利的技術(shù)方案，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7達到的效果要劣于涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7；最后，涉案專利系實用新型專利，專利權(quán)人潔馳公司在撰寫專利權(quán)利要求1時，明知本領(lǐng)域存在隔膜電解法和離子膜電解法這兩種不同的電解方法，選用的是離子膜的技術(shù)方案，在此情況下，本案不應(yīng)擴大與之配合使用的技術(shù)特征7的等同保護范圍。
據(jù)此，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7與涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7不構(gòu)成等同。
上訴人潔馳公司關(guān)于涉案雙方的技術(shù)特征7構(gòu)成等同的上訴理由不能成立，本院不予支持。
根據(jù)全面覆蓋原則進行專利侵權(quán)對比，本案被上訴人吉池公司制造并提供給原審被告健鼎公司使用的被控侵權(quán)設(shè)備未落入上訴人潔馳公司名稱為“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”的涉案專利的保護范圍，不構(gòu)成侵犯專利權(quán)。
綜上所述，上訴人潔馳公司的上訴請求不能成立，應(yīng)予駁回；一審判決認定事實部分錯誤，適用法律部分錯誤，但裁判結(jié)果正確，應(yīng)予維持。
依照《中華人民共和國民事訴訟法》第一百七十條 ?第一款 ?第一項 ?、《最高人民法院關(guān)于適用《中華人民共和國民事訴訟法》的解釋》第三百三十四條 ?規(guī)定，判決如下:
駁回上訴，維持原判。
二審案件受理費2300元，由上訴人深圳市潔馳科技有限公司負擔。
本判決為終審判決。

本院認為，結(jié)合當事人的上訴請求、理由及答辯意見，本案二審爭議焦點為:被控侵權(quán)設(shè)備是否落入涉案“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”實用新型專利權(quán)的保護范圍？對此，本院評判如下:
上訴人潔馳公司是涉案名稱為“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”（專利號:ZL20102056××××.0）實用新型專利的專利權(quán)人，該專利目前處于有效的法律狀態(tài)，受法律保護。
《中華人民共和國專利法》第五十九條 ?第一款 ?規(guī)定:“發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。
”《最高人民法院關(guān)于審理專利糾紛案件適用法律問題的若干規(guī)定》第十七條 ?第一款 ?規(guī)定，專利權(quán)的保護范圍應(yīng)當以權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征所確定的范圍為準，也包括與該技術(shù)特征相等同等同的特征所確定的范圍。
該條第二款對等同特征作出了規(guī)定，等同特征是指與所記載的技術(shù)特征以基本相同的手段，實現(xiàn)基本相同的功能，達到基本相同的效果，并且本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在被訴侵權(quán)行為發(fā)生時無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的特征。
根據(jù)上述規(guī)定，在進行專利侵權(quán)判定時，應(yīng)當以專利權(quán)利要求書中記載的技術(shù)方案的全部必要技術(shù)特征與被控侵權(quán)產(chǎn)品的全部技術(shù)特征逐一進行對比。
如果被控侵權(quán)產(chǎn)品的技術(shù)特征全面覆蓋了專利權(quán)利要求書中記載的全部必要技術(shù)特征，則落入專利權(quán)的保護范圍。
本案二審?fù)徶校鞣疆斒氯水斖ゴ_認，被控侵權(quán)設(shè)備和涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征1、2、4、6、8、9均相同，本案爭議的是，上訴人潔馳公司主張被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3、5、7與涉案專利權(quán)利要求1所記載的技術(shù)特征3、5、7分別構(gòu)成等同，而被上訴人吉池公司和原審被告健鼎公司則認為雙方的技術(shù)特征3、5、7既不相同也不構(gòu)成等同。
loz1loz關(guān)于涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征3、技術(shù)特征5和被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3、技術(shù)特征5是否分別構(gòu)成等同的問題。
涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征3是“離子膜電解槽”，技術(shù)特征5是“所述離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室”；被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征3是“隔膜電解槽”，技術(shù)特征5是“所述隔膜電解槽通過隔膜將陰陽極室隔開”。
本院認為，在涉案雙方的電解槽中，隔膜和離子膜的功能都是將電解槽中的陰極室和陽極室隔離開，兩者都是用來分隔陰極和陽極室的產(chǎn)物混合，即通過膜體的阻隔功能，達到阻止陽極室中通過電解產(chǎn)生的氯氣進入陰極室的效果，并且，根據(jù)公開出版物《燒堿生產(chǎn)與操作》的記載，隔膜電解法和離子膜電解法均是工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用的常規(guī)電解方法，據(jù)此可以認定，隔膜和離子膜屬于基本相同的技術(shù)手段，兩者是化工領(lǐng)域公知的、可選擇的技術(shù)方法，在本案被訴侵權(quán)行為發(fā)生時，將離子膜替換成隔膜是涉案技術(shù)領(lǐng)域普通技術(shù)人員無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的特征。
據(jù)此，上訴人潔馳公司關(guān)于涉案雙方的技術(shù)特征3和技術(shù)特征5分別構(gòu)成等同的上訴理由成立，本院依法予以支持。
一審判決認定涉案雙方的技術(shù)特征3相同以及技術(shù)特征5不構(gòu)成等同系適用法律錯誤，本院依法予以糾正。
（二）關(guān)于涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征7和被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7是否構(gòu)成等同的問題。
涉案專利權(quán)利要求1記載的技術(shù)特征7是“所述蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽儲存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液”，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7是“蝕刻廢液先流入陰極室，再通過隔膜流入陽極室”。
本案二審?fù)徶校簧显V人吉池公司和原審被告健鼎公司主張，涉案專利技術(shù)中蝕刻廢液是從陽極室加入，而被控侵權(quán)技術(shù)中蝕刻廢液只能從陰極室加入，雙方電解槽中蝕刻廢液流動路徑不同，因此雙方技術(shù)特征7既不相同也不構(gòu)成等同；上訴人潔馳公司則認為，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7記載的是“供給至陽極室”，并未完全限定蝕刻廢液必須先進入陽極室，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7所述蝕刻廢液最終還是流向陽極室，因此被控侵權(quán)設(shè)備向陰極室加入蝕刻廢液仍然落入涉案專利權(quán)的保護范圍。
本院認為，雖然涉案雙方使用的兩種膜體的電解槽本身構(gòu)成等同，但雙方選用不同膜體，導(dǎo)致各自與膜體配合使用的技術(shù)方案不同，雙方技術(shù)特征7的技術(shù)手段和技術(shù)效果不構(gòu)成等同，具體理由如下:首先，涉案專利采用離子膜電解槽的技術(shù)手段，離子膜只允許特定的離子通過，不允許蝕刻廢液通過，也就是說，按照涉案專利的技術(shù)方案，如果向陰極室加入蝕刻廢液，該蝕刻廢液無法通過離子膜供給至陽極室，并且，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7載明的是“供給至陽極室的蝕刻廢液”，而不是“供給至陽極室的氯離子”，換言之，涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7應(yīng)當解讀為直接向陽極室加入蝕刻廢液，如此操作蝕刻廢液才能夠供給至陽極室。
反觀被控侵權(quán)設(shè)備使用的隔膜電解法的技術(shù)方案，其不從陽極室加入蝕刻廢液，而是通過從陰極室加入蝕刻廢液形成的液面高度差，使蝕刻廢液和離子通過隔膜遷移到陽極室。
雖然被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7所述的蝕刻廢液最終流向了陽極室，但雙方蝕刻廢液的流動路徑不同，雙方技術(shù)特征7的技術(shù)手段存在明顯不同；其次，如同《燒堿生產(chǎn)與操作》一書所述，涉案專利利用離子膜具有對陰陽離子選擇性透過的特性，可以達到隔膜所不具備的凈化、提純等效果，而被控侵權(quán)設(shè)備需要利用液面高度差使得蝕刻廢液從陰極室流向陽極室，在液體流動和離子遷移的過程中，稀釋蝕刻廢液中的銅離子，實現(xiàn)含銅離子酸性蝕刻液再生的功能，其工作效率低于涉案專利的技術(shù)方案，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7達到的效果要劣于涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7；最后，涉案專利系實用新型專利，專利權(quán)人潔馳公司在撰寫專利權(quán)利要求1時，明知本領(lǐng)域存在隔膜電解法和離子膜電解法這兩種不同的電解方法，選用的是離子膜的技術(shù)方案，在此情況下，本案不應(yīng)擴大與之配合使用的技術(shù)特征7的等同保護范圍。
據(jù)此，被控侵權(quán)設(shè)備的技術(shù)特征7與涉案專利權(quán)利要求1的技術(shù)特征7不構(gòu)成等同。
上訴人潔馳公司關(guān)于涉案雙方的技術(shù)特征7構(gòu)成等同的上訴理由不能成立，本院不予支持。
根據(jù)全面覆蓋原則進行專利侵權(quán)對比，本案被上訴人吉池公司制造并提供給原審被告健鼎公司使用的被控侵權(quán)設(shè)備未落入上訴人潔馳公司名稱為“一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)”的涉案專利的保護范圍，不構(gòu)成侵犯專利權(quán)。
綜上所述，上訴人潔馳公司的上訴請求不能成立，應(yīng)予駁回；一審判決認定事實部分錯誤，適用法律部分錯誤，但裁判結(jié)果正確，應(yīng)予維持。

依照《中華人民共和國民事訴訟法》第一百七十條 ?第一款 ?第一項 ?、《最高人民法院關(guān)于適用《中華人民共和國民事訴訟法》的解釋》第三百三十四條 ?規(guī)定，判決如下:
駁回上訴，維持原判。
二審案件受理費2300元，由上訴人深圳市潔馳科技有限公司負擔。

審判長：徐翠
審判員：張浩
審判員：童海超

書記員：汪月琴